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回答你關(guān)于紅外光譜的一切疑問!

更新時間:2016-04-28      點擊次數(shù):3875
紅外光譜的定量分析和定性分析紅外光譜定性分析:一般采用三種方法:用已知標(biāo)準(zhǔn)物對照、標(biāo)準(zhǔn)譜圖查對法和直接譜圖解析法。 1. 已知物對照應(yīng)由標(biāo)準(zhǔn)品和被檢物在*相同的條件下,分別繪制紅外光譜圖進行對照,譜圖相同則肯定為同一化合物。 2. 標(biāo)準(zhǔn)譜圖查對法是一種zui直接、可靠的方法。在用未知物譜圖查對標(biāo)準(zhǔn)譜圖時,必須注意:測定所用儀器與繪制標(biāo)準(zhǔn)譜圖的在分辨率和精度上的差別,可能導(dǎo)致某些峰細微結(jié)構(gòu)的差別;未知物與標(biāo)準(zhǔn)譜圖的測定條件必須一致,否則譜圖會出現(xiàn)很大差別;必須注意引入雜質(zhì)吸收帶的影響。如KBr壓片可能吸水而引入水吸收帶等。 3. 對于未知化合物,可按照如下步驟解析譜圖:先從特征頻率區(qū)入手,找出化合物含有的主要官能團;指紋區(qū)分析,進一步找出官能團存在的依據(jù);仔細分析指紋區(qū)譜帶位置、強度和形狀,確定化合物的可能結(jié)構(gòu);對照標(biāo)準(zhǔn)譜圖,配合其他鑒定手段,進一步驗證。 紅外光譜定量分析: 選取合適的定量吸收峰,測定吸收峰的吸光度,依據(jù)朗佰-比爾定律,計算待測組分含量。 如何衡量和評價紅外光譜性能 信噪比是指樣品吸光度與儀器吸光度噪聲的比值,是評價儀器性能的一個重要指標(biāo),儀器吸光度噪聲可通過在一定的測試條件下,在確定的波長范圍內(nèi)對空白相應(yīng)變化的分析獲得。當(dāng)在確定的波長范圍內(nèi)對同一樣品進行多次測量時,儀器吸光度噪聲表現(xiàn)為測得的樣品吸光度的標(biāo)準(zhǔn)差。儀器的噪聲主要取決于儀器光源的穩(wěn)定性、電子系統(tǒng)的噪聲、檢測器產(chǎn)生的噪聲以及環(huán)境影響所產(chǎn)生的噪聲,如電子系統(tǒng)設(shè)計不良、儀器接地不良、外界電磁干擾等因素都會使儀器的噪聲增大。比如,近紅外光譜分析是一門弱信號分析技術(shù),即從一個很強的背景信號中提取出相對較弱的有用信息,得到分析結(jié)果,因此信噪比是近紅外光譜儀器非常重要的指標(biāo)之一,直接影響分析結(jié)果的準(zhǔn)確度和度。 《傅里葉變換紅外光譜分析》中,有紅外儀器信噪比的描述: “紅外儀器的信噪比是衡量一臺儀器性能好壞的一項非常重要的技術(shù)指標(biāo)。但是信噪比的測量方法目前沒有統(tǒng)一的、*的標(biāo)準(zhǔn),因此,各個紅外儀器公司所給定的儀器信噪比沒有可比性。每個紅外儀器公司都有信噪比的測量方法,因此,信噪比指標(biāo)的驗收只能按照儀器公司的驗收方法進行驗收。" 紅外光譜儀對實驗環(huán)境要求如何做好一名紅外光譜分析員? 只做鑒別的話,紅外是zui簡單好用的儀器。如何做好一名紅外光譜分析員?自從有了計算機,它可以代替人做很多紅外光譜圖的解析事情。所以,一個好的紅外光譜分析員需要知道更多的樣品背景知識!畢竟紅外只是從一個角度反映測試樣品特征。如果,知道更多的背景知識,可以zui大限度發(fā)揮紅外光譜作用!推薦《傅里葉變換紅外光譜分析》第二版 翁詩甫 編著。 操作紅外光譜,應(yīng)該有哪些安全防護呢?紅外光譜儀有激光器,不要眼睛注視光學(xué)臺里的激光。如果你使用的是FTIR(紅外傅立葉變化光譜)的話,首先檢查溫濕度計是否符合要求:溫度為16-25°C,相對濕度為20%-50%;二,確認周圍無振動、熱源、輻射、腐蝕性氣體遠離電磁干擾及震動等,尤其注意儀器使用時關(guān)閉手機.如果你們使用液氮作為儀器冷卻介質(zhì)的話,注意液氮的儲存與防爆;再者,如果在制作樣品時使用到有機溶劑譬如正己烷等注意通風(fēng)排氣以及自我防護等安全措施! 紅外光譜的輻射對人體有害嗎?準(zhǔn)確來說,手機會影響到紅外背景以及基線的形成,特別是儀器使用久了,手機電磁輻射的干擾便越加明顯。再者,注意紅外光譜儀的光源的維護以及儀器的干燥!據(jù)悉,一般FTIR采用半導(dǎo)體激光的,其功率不超過0.5mW,Class II等級,即使眼睛看了也沒事。采用He-Ne激光器的,一般功率不超過0.5mW,屬于Class IIIA等級,不能讓激光束直射入眼。平時使用它們的輻射很小,不會超過教師講課用的激光筆的,所以不必擔(dān)心。平時多注意手機輻射才是關(guān)鍵。PS:手機輻射對大多FTIR都有影響,特別是1波數(shù)分辨率以上的測量尤其明顯,所以大家測試數(shù)據(jù)時關(guān)閉上網(wǎng),接遠離測試儀器。 孕婦操作的話,應(yīng)該沒有影響。比如,分光光度計的用的是可見光而不是各種輻射,其儀器運行過程中也不會產(chǎn)生有害輻射,所以不會有影響。原子吸收生成的光譜是可見光為主,如果你要測試的物質(zhì)氣體本身不帶強烈的輻射性,產(chǎn)生的輻射其實相對安全。 紅外譜圖的好壞判斷?制作的紅外光譜圖質(zhì)量好壞,可根據(jù)如下方法判斷:譜圖基線平直,基線透光率在100%附近;吸收峰中,既有透光率較低的強峰,也有透光率較高的弱峰。如果所有的吸收峰都很強(透光率都很低),表明樣品含量太高;如果所有峰都很弱(透光率都很高),則表明樣品含量太低。一般來說,譜圖中zui大吸收峰在15%T左右,基線在80%T左右,且基線保持平直,得到是的圖就是好圖。 你忽略樣品圖譜與標(biāo)準(zhǔn)圖譜對比了嗎? 質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)中紅外鑒別項下通常規(guī)定測得的樣品紅外光譜圖應(yīng)與對照品圖譜一致,當(dāng)譜圖上的特征吸收帶位置、形狀及強度相一致時,可以*確證。當(dāng)然,兩圖吻合不可能,但各特征吸收帶的相對強度的順序是不變的。如果不是*一致怎么辦?一般考慮取中檢所的對照品再壓一個對照圖譜,或檢查樣品制備過程有沒有問題(比如研磨是否充分)。特別要注意是否多一些峰或者少一些峰(可能樣品錯了)。必要時取之前做過的合格留樣來對比一下。如果還是不一致就發(fā)不合格報告。因為經(jīng)常發(fā)現(xiàn)周圍有些檢測人員不重視比對工作,認為同一個工藝生產(chǎn)出來的產(chǎn)品應(yīng)該不會有所不同,可事實不是這樣的。樣品錯的可能性也有,任何細節(jié)都不要錯過。 為什么紅外光譜圖縱坐標(biāo)的范圍為4000~400 cm-1? 紅外光譜結(jié)構(gòu)解析經(jīng)驗 一個未知化合物僅用紅外光譜解析結(jié)構(gòu)是十分困難的。一般在光譜解析前,要做未知物的初步分析,紅外光譜譜圖的解析更帶有經(jīng)驗性、靈活性。解析主要是在掌握影響振動頻率的因素及各類化合物的紅外特征吸收譜帶的基礎(chǔ)上,按峰區(qū)分析,指認某譜帶的可能歸屬,結(jié)合其他峰區(qū)的相關(guān)峰,確定其歸屬。在此基礎(chǔ)上,再仔細歸屬指紋區(qū)的有關(guān)譜帶,綜合分析,提出化合物的可能結(jié)構(gòu)。必要時查閱標(biāo)圖譜或與其他譜(1H NMR,13C NMR,MS)配合,確證其結(jié)構(gòu)。紅外光譜儀操作規(guī)程 操作步驟 1.開機前準(zhǔn)備 開機前檢查實驗室電源、溫度和濕度等環(huán)境條件,當(dāng)電壓穩(wěn)定,室溫為21±5℃左右,濕度≤65%才能開機。2.開機 開機時,首先打開儀器電源,穩(wěn)定半小時,使得儀器能量達到*狀態(tài)。開啟電腦,并打開儀器操作平臺OMNIC軟件,運行Diagnostic菜單,檢查儀器穩(wěn)定性。3.制樣 根據(jù)樣品特性以及狀態(tài),制定相應(yīng)的制樣方法并制樣。4.掃描和輸出紅外光譜圖 測試紅外光譜圖時,先掃描空光路背景信號(Collect→Background),再掃描樣品文件信號(Collect→Sample),經(jīng)傅立葉變換得到樣品紅外光譜圖。 5.關(guān)機 (1)關(guān)機時,先關(guān)閉OMNIC軟件,再關(guān)閉儀器電源,zui后關(guān)閉計算機并蓋上儀器防塵罩;(2)在記錄本記錄使用情況。 紅外光譜儀使用注意事項1.保持室內(nèi)干燥,空調(diào)和除濕機必須全天開機(保持環(huán)境條件 25±10℃左右,濕度≤70%); 2.保持實驗室安靜和整潔,不得在實驗室內(nèi)進行樣品化學(xué)處理, 實驗完畢即取出樣品室內(nèi)的樣品。 3.經(jīng)常檢查干燥劑顏色,如果藍色變淺,立即更換。4.根據(jù)樣品特性以及狀態(tài),制定相應(yīng)的制樣方法并制樣。5.測試紅外光譜圖時,掃描空光路背景信號和樣品文件信號, 經(jīng)傅立葉變換得到樣品紅外光譜圖。根據(jù)需要,打印或者保存紅外光譜圖。 6.實驗完畢后在記錄本上記錄使用情況。 7.設(shè)備停止使用時,樣品室內(nèi)應(yīng)放置盛滿干燥劑的培養(yǎng)皿。8.干燥劑再生:將干燥劑在烘箱內(nèi)105℃烘干至藍色(約3小 時)即可。 9.將壓片模具、KBr晶體、液體池及其窗片放在干燥器內(nèi)備用。10.液體池使用NaCl、CaF2、BaF2等晶體很脆易碎,應(yīng)小心保存。 11.液體池使用的KRS-5晶體劇毒,使用時避免直接接觸(戴手 套),打磨KRS-5晶體時避免接觸或吸入KRS-5粉末,打磨的廢棄物必須妥善處理

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